高鉻鎳不銹鋼中的主要合金元素為鉻和鎳,其含量與配比對材料的綜合耐蝕性能至關(guān)重要。高鉻鎳不銹鋼常被用在濕法磷酸的生產(chǎn)設(shè)備上,在濕法磷酸生產(chǎn)工藝中,介質(zhì)中含有磷礦石、硫酸、氯離子、氟離子等,工作溫度為80℃,因此,材料的腐蝕變得復(fù)雜和苛刻。該材料在這類介質(zhì)中具有良好的耐蝕性能主要源于鉻和鎳的適當配合。林凡等人就高鉻鎳不銹鋼中鉻、鎳含量對腐蝕電化學(xué)特性的影響進行研究。結(jié)果表明,隨著鉻含量的增加,合金更容易鈍化;隨著鎳含量的提高,合金鈍態(tài)越穩(wěn)定。高鉻鎳含量有利于合金鈍化膜的形成。



1. 高鉻鎳不銹鋼材料的制備


將原材料:微碳鉻鐵、鉬鐵、錳鐵、鈦鐵、結(jié)晶硅、電解鎳、電解銅、工業(yè)純鐵按一定比例在中頻感應(yīng)爐內(nèi)熔煉澆鑄成試樣,出爐溫度1530℃,澆注溫度約1450℃。三種試樣的化學(xué)成分見表6-17。


表 17.jpg



2. 高鉻鎳不銹鋼實驗方法


 對1號、2號、3號材料進行陽極極化測試,測定材料在腐蝕介質(zhì)中的致鈍電位、維鈍電位、維鈍電流、點蝕電位和鈍化電位范圍。


 實驗介質(zhì): 


 磷酸(H3PO4)  54%  、氟離子(F-)  1%  、硫酸(H2SO4)  4%  、介質(zhì)溫度  76℃  、氯離子(Cl-)  600mg/L


 測定2號、3號材料在氯離子分別為200mg/L、600mg/L、1000mg/L、2000mg/L的上述介質(zhì)中的致鈍電位、維鈍電位和點蝕電位。


 采用俄歇電子能譜(AES)技術(shù)測定鈍化膜中各元素的深度分布。運用X射線光電子能譜(XPS)對膜中各元素的氧化物組態(tài)進行分析。




3. 高鉻鎳不銹鋼中鉻、鎳含量對合金鈍化的影響



 a. 鉻含量的影響


   圖6-10表示合金致鈍電位、維鈍電位與含鉻量的關(guān)系。由圖6-10可見,當鉻含量增加時,陽極極化曲線的致鈍電位和維鈍電位負移,使系統(tǒng)得到的腐蝕電位高于該金屬的致鈍電位,促進了合金更快地進入鈍態(tài)。或者說鉻量的增加,能使合金在更低的電位就能鈍化。


圖 10.jpg


 b. 鎳含量的影響


   圖6-11為合金致鈍電流密度、維鈍電流密度與鎳含量的關(guān)系。由圖可見,合金在介質(zhì)中的致鈍電流密度與維鈍電流密度隨鎳量的增加而變小。


圖 12.jpg


   圖6-12為合金鈍化范圍與鎳含量的關(guān)系。由圖6-12可見,合金在介質(zhì)中的鈍化準圍隨鎳量的增加逐漸變寬。


  電化學(xué)反應(yīng)的陰極過程受阻滯的步驟通常認為是氫原子在電極上的還原過程,氫在鎳表面反應(yīng)交換電流密度較少,因而隨著極化電位的增加,合金的維鈍電流仍能維持在較低的水平,使鈍化狀態(tài)保持在較寬的范圍內(nèi)。同時鎳固溶于鈍化膜中,而且被氧化的較少,從而增加鈍化膜和金屬表層的熱力學(xué)穩(wěn)定性。



4. 介質(zhì)中氯離子和氟離子的影響


  圖6-13為氯離子含量對合金致鈍電位、維鈍電位的影響,圖6-14為氯離子對合金過鈍化電位的影響。由圖6-13可見,在不同氯離子含量的介質(zhì)中,2號合金的致鈍電位和維鈍電位基本上低于3號合金。隨著鉻量的增加,合金更容易鈍化,說明在耐氯離子腐蝕中,有足夠鉻含量的重要性。


圖 13.jpg


  由圖6-14可見,在不同氯離子含量的介質(zhì)中,3號合金的過鈍化電位更正些表明合金的鈍化穩(wěn)定性更強些。


  反應(yīng)介質(zhì)中含有氯離子和氟離子,使已經(jīng)鈍化的合金重新活化,除氫外,氯離子的活化能力大于氟離子,而氟離子又明顯增加了氯離子對活化區(qū)陽極溶解的去極化作用。因此,圖6-13、圖6-14所示的應(yīng)是氯離子和氟離子共同作用的結(jié)果。研究表明,增加合金中的鉻含量有利于合金在較低的電位就進入鈍化狀態(tài),更快地使合金表層形成較完整的氧化膜,并在較低的電位維持鈍態(tài)。從圖6-12、圖6-14的結(jié)果可以看出,增加合金的鎳含量,可使3號合金的鈍化范圍更寬,過鈍化電位更正。這表明鎳在合金中可以起到穩(wěn)定合金表層鈍化狀態(tài)的作用,并有助于延長發(fā)生孔蝕核的誘導(dǎo)時間。



5. 合金鈍化膜的表層結(jié)構(gòu)分析


  圖6-15為合金鈍化膜中各元素的深度分布曲線(AES),圖6-16為合金鈍化膜表層的俄歇電子能譜圖(AES)。


圖 15.jpg


 對鈍化膜中各元素氧化物的組態(tài)進行了XPS分析,并將濺射前后鈍化膜表層和基體中氧、鐵、鉻、鎳、鉬各元素的氧化峰及金屬峰結(jié)合能與標準手冊上的結(jié)合能進行對比。所測試到的各元素的結(jié)能均采用 OIs 峰進行標定,見表 6-18。


表 18.jpg


  從AES和XPS的分析結(jié)果可知,鈍化膜表層氧富集較多,其次是鉻和鐵。同時,在合金的鈍化膜表層中,鉻基本上全部氧化,以三氧化二鉻(Cr2O3)的形式存在。鐵有部分被氧化成氧化亞鐵(FeO)和三氧化二鐵(Fe2O3),鉬有部分被氧化成三氧化鉬(MoO3),而鎳只有少量被氧化成氧化鎳(NiO)。從氧的結(jié)合能可看到,鈍化膜主要是O-M-O鍵。這就使金屬與溶液界面上形成了一道屏障層。這種由O-M-O鍵組成的屏障,決定鈍化膜表面的活性點少,鈍化膜有高效的化學(xué)穩(wěn)定性,不易受到破壞,而這些都與恰當?shù)你t、鎳匹配分不開。